众所周知,去年10月份开始,美国就针对中国芯进行了更进一步的打压。
(资料图)
美国的目标非常明确,那就是锁死中国大陆18纳米以下DRAM内存的生产设备,128层以上NAND闪存生产设备,以及14纳米以下逻辑芯片的生产设备。
而为了达到这个目标,今年美国更是牵手了荷兰、日本,因为日本、荷兰也有很多半导体设备巨头,特别是荷兰有ASML,日本有尼康这两大光刻机巨头。
所以我们看到,前段时间ASML表示,浸润式光刻机中,TWINSCAN NXT:2000i及之后的浸没式光刻系统,已经卖给中国了,只有TWINSCAN NXT:2000i之前的光刻机不受影响。
所以一时之间,网友们都非常担心,觉得我们芯片产业最重要的可能就是卡在光刻机上面了,因为国产的才90nm精度,而浸润式光刻机也受限,那么我们可能很长一段时间,因为光刻机的原因要卡在14nm了,除非国产光刻机有突破。
说真的,关于光刻机,其实大家不必太过于担心,不说国产光刻机突破,仅目前能够买到的这一台光刻机,就能够支撑到7nm。
如下图所示,这是目前ASML三种浸润式光刻机的详细介绍,里面有具体提到支持的工艺制程。
而TWINSCAN NXT:1980Di是我们能够买到的,明确指出可以用于10nm以下节点的批量生产,不说5nm,7nm是没问题的。
事实上,从砂子变成芯片,中间需要几十种材料,几百种设备,几千道工序,光刻机只是其中最为核心的设备之一,但并不是说拥有了先进光刻机,就等同于掌握了先进工艺。
如果你搞定7nm芯片,需要其它所有的设备、材料都达到先进的7nm工艺,还需要自己的芯片制造技术,也达到7nm工艺,并不是只有7nm光刻机就行的。
而我们对外依赖的并不仅仅只有7nm光刻机,还有众多的材料、设备,比如光刻胶等等,所以别只把目光盯在光刻机上,我们要补的课还非常多,别想一口吃成胖子,慢慢来。
原文标题:别担心,我们能买到的ASML光刻机,能支撑到7nm工艺
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